Установка для получения деионизованной воды

Деионизованная вода применяется в микроэлектронике при изготовлении печатных плат, полупроводниковых элементов, интегральных микросхем и т.д. Исходная вода содержит значительное количество железа (в т.ч. окисляемого двухвалентного) и некоторое количество марганца. Возможна доработка установки в соответствии с индивидуальными требованиями заказчика. Установка обеспечивает качество деионизованной воды выше требований ОСТ 11.029.003-80 для марки «А» в части содержания взвешенных частиц и растворенных газов, а также размеров взвешенных частиц — частицы размером более 0,02 мкм практически отсутствуют. В установке применена энергосберегающая схема дегазации, утилизирующая энергию потока концентрата обратного осмоса.

Технические характеристики

Наименование	Значение
Размеры установки:
Узел водоподготовки	2000х800х1800 мм
Узел деионизации	1000х400х14000 мм
Производительность установки	50 л/ч
Резервный объем деионизованной воды	500 л
Потребление исходной воды среднее/пиковое	170/2000 л/ч
Сброс дренажной воды средний/пиковый	120/960 л/ч
Электрическая мощность	1.7/5.4 кВт
Питание	380 В, 50 Гц
Масса установки	931 кг
Подготовленная вода отвечает требованиям марки «А» по ОСТ 11.029.003-80*

Параметры деионизованной воды

Показатели	Ед. измерений	Фактические значение	Марка «А» по ОСТ 11.029.003-80
Удельное сопротивление при темп. 18…22°C	МОм·см	не менее 18	не менее 18
Перманганатная окисляемость	мг/л	не более 0,5	не более 1,0
Содержание кремниевой кислоты SiO32-	мг/л	не более 0,01	не более 0,01
Содержание железа	мг/л	не более 0,002	не более 0,015
Содержание меди	мг/л	не более 0,002	-
Содержание микроорганизмов	колоний/мл	не более 1	не более 2
Содержание микрочастиц 1…5 мкм	шт./мл	не более 2	не более 20
Общий органический углерод (Т°C)	мг/л	не более 0,5	-

Установка для получения деионизованной воды

Контактная информация отдела продаж